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電子ビーム蒸着装置

ShareAid ID:2297

機器・設備導入:

掲載情報更新:2026/05/20

型式
UL-400EB
メーカー
アネルバ
製品情報URL
キャンパス
筑紫
設置場所
オープンイノベーション棟 1階
概要・性能・仕様
到達真空度(vacuum): <1×10-5 Pa (室温, RT)
成膜方式(method): 電子ビーム(electron beam), 抵抗加熱(resistive heating)
キーワード
区分
成膜・加工装置

管理者情報

半導体・デバイスエコシステム研究教育センター

センター事務室

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